Модель PD-220NA очень гибкая по отношению к возможности проведения разных процессов осаждения и предназначена как для передовых исследований новых процессов, так и для небольших производственных задач. PD-220NA особенно хороша для осаждения кремний-содержащих пленок (SiO2, Si3N4, SiOxNy, a-Si:H). Все стандартные особенности проведения процессов осаждения поддерживаются в рамках очень небольшого пространства нужного для размещения данной машины. Пленки с очень высокой однородностью по толщине и индексу рефракции можно получать на пластинах диаметром до 230 мм с прекрасным воспроизведением результатов от партии к партии. Компьютеризированный сенсорный экран имеет весьма дружественный интерфейс для управления всеми параметрами и хранения рецептов процессов.